Titlebook: Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr; Walter Olbrich Book 1994 Springer-Ve

灌输

Occlusion

不透明

Folgen von Obliegenheitsverletzungen,fahren lassen sich dünne Schichten im Bereich einiger Nanometer bis zu einigen Mikrometern auf vielen Werkstücken erzeugen. Durch die Beschichtung lassen sich gezielt die Eigenschaften der Werkstückober-fläche verändern. Die Oberfläche dient bei allen Bauteilen als Schnittstelle zu ihrer Umwelt und

enormous

儿童

淘气

Intelligenter Umgang mit Fehlern,abhängig gemacht. Dieser Parame-ter E. ist direkt proportional zur durchschnittlichen Energie und zur Stromdichte der auftref-fenden Ionen bzw. zur Biasspannung U. und zur Biasstromstärke I.:.Beschichtungsversuche mit der überlagert gepulsten Biasspannung sollen zeigen, daß die zur Ausbildung der Zo

Banquet

不规则的跳动

BILE

https://doi.org/10.1007/978-3-322-90029-6nen (bis 1000 eV) während des Beschichtungsprozesses dargestellt. Die aus der ionenunterstützten Abscheidung resultier renden Vorteile in den Gebrauchseigenschaften einer Beschichtung sind vielfaltig, basieren je-doch fast ausschließlich auf einem Verbessern der Mikrostruktur abgeschiedener Schichte

LUMEN