Titlebook: Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr; Walter Olbrich Book 1994 Springer-Ve

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PVD-Verfahrenstechnologie,Zum Erzeugen dünner Schichten werden viele unterschiedliche Verfahren angeboten. Im we-sentlichen unterscheiden sich diese Verfahren durch die Art und Weise, mit der das feste Aus-gangsmaterial in die Gasphase übergeführt wird.

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Einleitung,wird folglich vielfältig beansprucht. Sie muß chemischen, mechanischen oder thermischen Be-lastungen standhalten und übernimmt oft eine zusätzliche Funktion, die dekorativ, tribologisch oder optisch wirksam ist. Diese Aufgabenfelder lassen sich in vielen Fällen mit PVD-Beschich-tungen abdecken.

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Anwendungsbeispiele,sgesetzt sind, darf kein intensiver Ionenbeschuß während des Be-schichtungsprozesses stattfinden. Durch die niedrige Beschichtungstemperatur bildet sich vor allem in der Nadelöse eine Hartstoffschicht, die nur schwach belastbar ist (Bild 8.1 oben) und an einigen Stellen ohne äußere Belastung abplatzt (Bild 8.2 oben).

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Zusammenfassung,seigenschaften einer Beschichtung sind vielfaltig, basieren je-doch fast ausschließlich auf einem Verbessern der Mikrostruktur abgeschiedener Schichten in-folge des Ionenbeschusses. Die Ursache dieser Tatsache hegt darin, daß der Ionenbeschuß die physikalischen Vorgänge an der Oberfläche beschleunigt oder überhaupt erst ermöglicht.

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Folgen von Obliegenheitsverletzungen,wird folglich vielfältig beansprucht. Sie muß chemischen, mechanischen oder thermischen Be-lastungen standhalten und übernimmt oft eine zusätzliche Funktion, die dekorativ, tribologisch oder optisch wirksam ist. Diese Aufgabenfelder lassen sich in vielen Fällen mit PVD-Beschich-tungen abdecken.

使成整体

Sarah Alexi,Friederike Heinzel,Uta Marinizeßtechnik auf große Anlagen (up-scale) zu lösen. Für viele tribologische Anwendungen ist ein Verschleißschutz durch PVD-Schichten nicht ausreichend. Besonders zu beachten ist, daß viele PVD-Schichten keinen genügenden Korrosionsschutz bieten.