| 书目名称 | Silizium-Halbleitertechnologie |
| 副标题 | Grundlagen mikroelek |
| 编辑 | Ulrich Hilleringmann |
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| 概述 | Umfassende Darstellung der Fertigungsverfahren bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltungen.Fertigungsverfahren und Technologien in der Mikroelektronik.Aktuelle Verfahren der mikroelektronische |
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| 描述 | Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen 10 nm gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Lehrbuch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik. |
| 出版日期 | Textbook 20146th edition |
| 关键词 | 10 nm; Anforderung; Anwender; Atomic; Ausstattungen; Bipolar-Technologie; Bipolarschaltung; Bipolartechnik; |
| 版次 | 6 |
| doi | https://doi.org/10.1007/978-3-8348-2085-3 |
| isbn_ebook | 978-3-8348-2085-3 |
| copyright | Springer Fachmedien Wiesbaden 2014 |
发表于 2025-3-21 16:07:56
