Titlebook: Ion Implantation Techniques; Lectures given at th Heiner Ryssel,Hans Glawischnig Conference proceedings 1982 Springer-Verlag Berlin Heidelb

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M. I. Current,D. S. Perloff,L. S. Gutaiangs recht ungewiß, ob und in welchem Umfang mit Expertenauskünften zu rechnen sei. Aus prophylaktischen bzw. kompensatorischen Gründen hielten wir es deshalb für geraten, auf diesem Feld eigene Erhebungen durchzuführen. Sie konnten angesichts der knappen Personal- und Zeitressourcen nur als Kurzrec

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P. Eichinger,H. Rysseles mit diesem Bedeutungsgehalt eingedeutschten Begriffs ’Kontrolle’ erhöhen sich durch das Übersetzungsproblem, denn: Der sprachliche- und damit weitgehend auch der konzeptionelle - Transfer von ’Control’ in ’Kontrolle’ ist dadurch erheblich erschwert, daß sich der Bedeutungsgehalt der Termini in de

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Ion Implantation System Concepts the presently available commercial equipment is presented. The system-limiting aspects, such as throughput, uniformity, wafer heating, energy range, wafer size, charge-up, and contamination, are reported in detail. Finally, some remarks on the operation and control of an ion implanter are made.

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Faraday Cup Designs for Ion Implantation bulk material diffusions, its extendability to large target dimensions, and its ability to be mask-defined with small lateral spreading and controlled depths [1–3], In its practical execution, ion implantation employs the electromagnetic properties of the ions to regulate the energy, species, total

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Safety and Ion Implantersradiation, toxic chemicals, high voltages and mechanical forces capable of causing serious harm all exist. Manufacturers build equipment with interlock systems which are capable of protecting the operator from harm. Maintenance procedures are also safe, provided that proper procedures are followed,