| 书目名称 | Silizium-Halbleitertechnologie |
| 副标题 | Grundlagen mikroelek |
| 编辑 | Ulrich Hilleringmann |
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| 概述 | Umfassende Darstellung der Fertigungsverfahren bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltungen.Fertigungsverfahren und Technologien in der Mikroelektronik.Aktuelle Verfahren der mikroelektronische |
| 图书封面 |  |
| 描述 | Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert. Moderne 3D-Bauformen für Feldeffekttransistoren runden den Inhalt ab. . |
| 出版日期 | Textbook 2023Latest edition |
| 关键词 | Elektronik; Halbleitertechnik; Chip; Bipolar-Technologie; CMOS; Silizium; Bipolarschaltung; Dotierung; Oxida |
| 版次 | 8 |
| doi | https://doi.org/10.1007/978-3-658-42378-0 |
| isbn_softcover | 978-3-658-42377-3 |
| isbn_ebook | 978-3-658-42378-0 |
| copyright | Der/die Herausgeber bzw. der/die Autor(en), exklusiv lizenziert an Springer Fachmedien Wiesbaden Gmb |
发表于 2025-3-21 17:29:18
