| 书目名称 | Ionenimplantation | | 编辑 | Heiner Ryssel,Ingolf Ruge | | 视频video | http://file.papertrans.cn/476/475204/475204.mp4 | | 图书封面 |  | | 描述 | In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Bücher zum Thema Ionenimplanta tion, die sich fast ausschließlich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation tätige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einräumen. Im Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implanta tionsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, F or schungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Veränderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation für ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung muß deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abriß der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptsächlich verwendeten Meß methoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und natürlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwe | | 出版日期 | Book 1978 | | 关键词 | Aluminium; Dotierung; Energie; Halbleiter; Halbleiterbauelement; Industrie; Reaktor; Systeme; Verfahren; Werk | | 版次 | 1 | | doi | https://doi.org/10.1007/978-3-663-05668-3 | | isbn_softcover | 978-3-519-03206-9 | | isbn_ebook | 978-3-663-05668-3 | | copyright | B. G. Teubner, Stuttgart 1978 |
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