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Titlebook: Ion Implantation in Semiconductors 1976; Fred Chernow,James A. Borders,David K. Brice Book 1977 Plenum Press, New York 1977 Plantation.cor

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楼主: affected
发表于 2025-3-23 10:41:20 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-23 15:50:17 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-23 19:40:02 | 显示全部楼层
M. Fujimoto,H. Yamazaki,T. Hondaommunikation einen wesentlichen Teil der Beziehungswirklichkeit aus. Dabei können Störungen im sexuellen Bereich sowohl Ausdruck als auch Verstärker bzw. Anlaß von Beziehungsproblemen sein. Als indirekte sexuelle Funktionsstörungen können sie an der Genese zahlreicher psychosomatischer Leiden innerh
发表于 2025-3-24 01:18:11 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-24 04:10:19 | 显示全部楼层
J. Comas,L. Plew,P. K. Chatterjee,W. V. McLevige,K. V. Vaidyanathan,B. G. Streetmane zweite und dritte Kategorie fallen, hätte man die Einzelskalen zweifellos auch in den entsprechenden Kapiteln zu speziellen Verhaltensbereichen darstellen können. So beansprucht etwa die Münchener Funktionelle Entwicklungsdiagnostik für das 1. Lebensjahr, acht verschiedene Dimensionen zu erfassen,
发表于 2025-3-24 10:28:40 | 显示全部楼层
C. A. Stoltediesem Aufruf mit Qualitätsverschlechterungen gleich gesetzt und Qualitätsverbesserungen an den Erhalt bestehender Strukturen gebunden. Andere Kritiker prophezeien, dass die deutsche Universität ihre „Seele“ verlieren wird, wenn sie sich auf Bachelor-und Masterstudiengänge einlässt, und dass der Ver
发表于 2025-3-24 14:06:31 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-24 15:27:34 | 显示全部楼层
S. M. Myersum einen wollen sie im Namen der von ihnen vertretenen Institute "ihrem" Jubilar einen Dank fiir sein langjähriges Engagement abstatten - da­ mit verbindet sich die Hoffnung auf eine auch zukünftig fruchtbare Zusam­ menarbeit. Zum anderen wollen sie Volkmar Köhler eine persönliche Freude machen. Und da vielen978-3-322-92582-4978-3-322-92581-7
发表于 2025-3-24 21:35:08 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-24 23:12:43 | 显示全部楼层
Impurity Distribution of Ion-Implanted Be in GaAs by Sims, Photoluminescence, and Electrical Profili and electrically active profiles for fluences ≥ 6X10.cm. showed significant Be redistribution after the 900°C anneal. The atomic Be profile exhibited a sharp surface peak followed by an essentially flat distribution extending to approximately twice the peak position observed in unannealed samples.
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