设为首页收藏本站
开启辅助访问 切换到窄版

 找回密码
 To register

QQ登录

只需一步，快速开始

扫一扫，访问微社区

  • ALL
  • Journals
  • Books

派博传思国际中心 »期刊书目

› Journal of SCIE
› AUTOMATION & CONTROL SYSTEMS(自动化与控制系统)

1234下一页
返回列表

SCIE期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS 2024/2025影响因子:7.581 (IEEE T IND ELECTRON) (0278-0046). (AUTOMATION &

[复制链接]
查看: 30255|回复: 35
发表于 2025-3-21 19:21:19 | 显示全部楼层 |阅读模式
期刊全称IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS
期刊简称IEEE T IND ELECTRON
影响因子20247.581
视频video
ISSN0278-0046
eISSN1557-9948
出版商IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
发行地址445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141
学科分类1.Science Citation Index Expanded (SCIE)--Automation & Control Systems | Engineering, Electrical & Electronic | Instruments & Instrumentation; 2.Current Contents Electronics & Telecommunications Collection--Electronics & Electrical Engineering; 3.Current Contents Engineering, Computing & Technology--Electrical & Electronics Engineering; 4.Essential Science Indicators--Engineering;
出版语言English
The information of publication is updating

SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS(20 21 REV HIST)影响因子


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS(IEEE T IND ELECTRON)影响因子@(自动化与控制系统)学科排名


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS(20 21 REV HIST)总引论文


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS(IEEE T IND ELECTRON)总引论文@(自动化与控制系统)学科排名


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS(20 21 REV HIST)影响因子


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS(IEEE T IND ELECTRON)总引频次@(自动化与控制系统)学科排名


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS(20 21 REV HIST)即时影响因子


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS(IEEE T IND ELECTRON)即时影响因子@(自动化与控制系统)学科排名


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS(20 21 REV HIST)五年累积影响因子


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS(IEEE T IND ELECTRON)五年累积影响因子@(自动化与控制系统)学科排名


单选投票, 共有 0 人参与投票
1.jpg
 

0票 0%

Perfect with Aesthetics
2.jpg
 

0票 0%

Better Implies Difficulty
3.jpg
 

0票 0%

Good and Satisfactory
4.jpg
 

0票 0%

Adverse Performance
5.jpg
 

0票 0%

Disdainful Garbage
您所在的用户组没有投票权限
严峻
回复

举报

发表于 2025-3-21 22:22:00 | 显示全部楼层
Submitted on: 05 May 2017. Revised on: 19 August 2017. Accepted on: 01 October 2017. ___________________IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS
粉笔
回复

举报

发表于 2025-3-22 01:29:57 | 显示全部楼层
AORTA
回复

举报

发表于 2025-3-22 06:52:41 | 显示全部楼层
Submitted on: 06 February 2010. Revised on: 19 April 2010. Accepted on: 02 May 2010. ___________________IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS
engrave
回复

举报

发表于 2025-3-22 09:14:51 | 显示全部楼层
Submitted on: 22 February 2021. Revised on: 26 March 2021. Accepted on: 13 April 2021. ___________________IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS
Airtight
回复

举报

发表于 2025-3-22 14:38:05 | 显示全部楼层
BOOR
回复

举报

发表于 2025-3-22 19:25:29 | 显示全部楼层
Submitted on: 06 November 2023. Revised on: 10 February 2024. Accepted on: 05 April 2024. ___________________IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS
冥想后
回复

举报

发表于 2025-3-22 21:28:13 | 显示全部楼层
Submitted on: 11 February 2012. Revised on: 13 March 2012. Accepted on: 07 April 2012. ___________________IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS
接合
回复

举报

发表于 2025-3-23 03:29:47 | 显示全部楼层
指令
回复

举报

发表于 2025-3-23 08:54:42 | 显示全部楼层
Submitted on: 14 September 2023. Revised on: 30 December 2023. Accepted on: 21 January 2024. ___________________IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRIAL ELECTRONICS
stratum-corneum
回复

举报

下一页 »
1234下一页
返回列表
 关于派博传思  派博传思旗下网站  友情链接
派博传思介绍 公司地理位置 论文服务流程 影响因子官网 SITEMAP 大讲堂 北京大学 Oxford Uni. Harvard Uni.
发展历史沿革 期刊点评 投稿经验总结 SCIENCEGARD IMPACTFACTOR 派博系数 清华大学 Yale Uni. Stanford Uni.
|Archiver|手机版|小黑屋| 派博传思国际 ( 京公网安备110108008328) GMT+8, 2025-4-28 16:50
Copyright © 2001-2015 派博传思   京公网安备110108008328 版权所有 All rights reserved
快速回复 返回顶部 返回列表