Titlebook: Vakuumbeschichtung; Verfahren und Anlage Uwe Behringer,Helmut Gärtner,Gerhard K. Wolf,Gerha Book 1995 Springer-Verlag Berlin Heidelberg 199

glowing

Paradox

,Erzeugung von Mikrostrukturen an Oberflächen und dünnen Schichten,ierungsprozesse, um Strukturen kleiner 1 μm herstellen zu können. Die Lithographie und die darauffolgenden Ätzprozesse gehören zu den wichtigsten Schritten bei der Strukturierung von dünnen Oberflächenschichten, die auf der Oberfläche z.B. einer Siliziumscheibe (Wafer) aufgebracht werden.

易达到

guardianship

Plasmaspritzen,ztechnik ein enormes Anwendungspotential erschlossen [9-45]. Einer der Hauptgründe hierfür liegt in der universellen Einsetzbarkeit dieses Verfahrens, das hinsichtlich der verwendeten Grundwerkstoffe und Beschichtungsmaterialien fast beliebige Kombinationsmöglichkeiten erlaubt.

Abrupt

Radiation

penance

,Vakuumbeschichtungsverfahren — Übersicht,sern gleichzeitig eine geringe Rauheit, eine dem Massivmaterial entsprechende Dichte und eine große Härte aufweisen. Sie müssen außerdem gegenüber vorgegebenen chemischen Dämpfen oder Flüssigkeiten resistent sein.

Heterodoxy

,Ionenzerstäubung von Festkörpern (Sputtering), erfolgen kann, verwendet man in der Zwischenzeit die Bezeichnung Ionenzerstäubung. Im Englischen hat sich der Terminus „sputtering“ etabliert, der heute im allgemeinen für die teil-chenbeschußinduzierte Auslösung von Atomen und Molekülen aus einer Festkörperoberfläche benutzt wird.

流出

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带来墨水