Titlebook: Rechnergestützter Entwurf hochintegrierter MOS-Schaltungen; Wolfgang Rosenstiel,Raul Camposano Textbook 1989 Springer-Verlag Berlin, Heide

Keratectomy

stützte Entwurf dabei im Vordergrund steht, werden die notwendigen physikalischen und elektrotechnischen Grundbegriffe nicht vernachlässigt. Auch wird die Herstellung integrierter Schaltungen kurz angesprochen, da ein gewisses produktionstechnisches Verständnis für den Entwurf notwendig ist. Damit i

反复无常

manifestation

Technologische Entwicklung,damals noch nicht bekannter Oberflächeneffekte war dieser Versuch zunächst nicht geglückt. Mittlerweile waren Bardeen und Brattain mit dem bipolaren Transistor erfolgreich, so daß die Nutzung des Feldeffekts nicht weiter verfolgt wurde. Shockley arbeitete jedoch weiter an der Lösung der aufgetretene

表皮

ARENA

Masken- und Waferherstellung,ung integrierter MOS Schaltungen entsprechen im wesentlichen der Bipolar-Technik. Die fotolithografische Maskentechnik, die Oxidations-und Diffusionsschritte werden wie bei bipolaren Schaltungen durchgeführt, wobei die Temperatur den MOS-Strukturen angepaßt wurde. Die einzelnen Schritte der Maskenhe

Mirage

者变

多产子

Masken- und Waferherstellung,stellungsprozesses das Verständnis der Schnittstellen zwischen dem Entwurf und der Herstellung zu verbessern. Diesem Kapitel liegt im wesentlichen Lehrbuchwissen zugrunde, das vor allem entnommen wurde aus [MeCo80, Muro82, WeEs85, GIDo85, Mukh86] sowie [ScAm87].

甜瓜

Textbook 1989S-Schaltungen in verschiedenen Schaltungstechniken auf der Schaltkreisebene verstehen und zu entwerfen. Es werden verschiedene Entwurfsstile vorgestellt und die geläufigen Methoden und Algorithmen für Layout-Erstellung detailliert beschrieben.

索赔

igitale MOS-Schaltungen in verschiedenen Schaltungstechniken auf der Schaltkreisebene verstehen und zu entwerfen. Es werden verschiedene Entwurfsstile vorgestellt und die geläufigen Methoden und Algorithmen für Layout-Erstellung detailliert beschrieben.978-3-540-50278-4978-3-642-95574-7