找回密码
 To register

QQ登录

只需一步,快速开始

扫一扫,访问微社区

Titlebook: Handbuch energiesparende Halbleiterbauelemente – Hochintegrierte Chips; Bedeutung · Fertigun Hartmut Frey,Engelbert Westkämper,Bernd Hintze

[复制链接]
楼主: crusade
发表于 2025-3-28 18:08:39 | 显示全部楼层
Strukturierungsmethoden,Zu den konventionellen Lithografieverfahren gehören die Foto-, EUV-, Röntgen-, Elektronenstrahl-und Ionenstrahllithografie. Foto-, EUV-, Röntgenlithografie und die Elektronenstrahlschattenwurfmetode sind parallele Verfahren, d. h., es können größere Substratflächen gleichzeitig belichtet werden. 
发表于 2025-3-28 20:56:41 | 显示全部楼层
Dotierungsmethoden,Zweck der Halbleiterdotierung ist, den Donatortyp innerhalb eines bestimmten Bereichs des Kristalls einzustellen, um seine lokalen elektrischen Eigenschaften zu modifizieren. Die Diffusion ist dafür eine Möglichkeit und wurde eingehend untersucht. Die Diffusion beschreibt den Prozess, durch den sich Atome (Ionen) in einem Kristallgitter bewegen.
发表于 2025-3-29 02:30:17 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-29 04:27:06 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-29 10:32:02 | 显示全部楼层
Hartmut Frey,Engelbert Westkämper,Bernd HintzeBeschreibt eine Schlüsseltechnologie für die Zukunft.Umfassender Überblick über die Möglichkeiten, Eigenschaften und Fertigungstechnologien.Gibt Ausbauszenarien und einen ökonomischen sowie ökologisch
发表于 2025-3-29 12:34:07 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-29 16:54:56 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-29 22:04:24 | 显示全部楼层
,Einsatzgebiete schneller, höchstintegrierter Halbleiterbauelemente, Know-how im Umgang mit industriellen Fertigungsmethoden kombiniert mit informationstechnischen Prozessen wie der Steuerung von Fertigungsanlagen durch künstliche Intelligenz (AI) und das Internet der Dinge (IoT) (Abb. 1.1).
发表于 2025-3-30 00:58:58 | 显示全部楼层
Design von Halbleiterfertigungsanlagen,nen sein: Verunreinigungen in Chemikalien, Pinholes in abgeschiedenen Schichten, die Haftprobleme verursachen können. Die meisten Defekte entstehen, wenn kleine Partikel aus der Umgebung auf das Halbleitersubstrat gelangen.
 关于派博传思  派博传思旗下网站  友情链接
派博传思介绍 公司地理位置 论文服务流程 影响因子官网 SITEMAP 大讲堂 北京大学 Oxford Uni. Harvard Uni.
发展历史沿革 期刊点评 投稿经验总结 SCIENCEGARD IMPACTFACTOR 派博系数 清华大学 Yale Uni. Stanford Uni.
|Archiver|手机版|小黑屋| 派博传思国际 ( 京公网安备110108008328) GMT+8, 2025-5-15 08:28
Copyright © 2001-2015 派博传思   京公网安备110108008328 版权所有 All rights reserved
快速回复 返回顶部 返回列表