Titlebook: Elektronenmikroskopische Untersuchungs- und Präparationsmethoden; Ludwig Reimer Book 19591st edition Springer-Verlag Berlin Heidelberg 195

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附录

树胶

Schrägbeschattungische Präparationstechnik eingeführt. Auf die Möglichkeit einer Vor- und Nachbeschattung der Abdrücke (Filme oder Matrizen) wurde bereits in § 13 hingewiesen. Es sei noch einmal bemerkt, daß der Vorbeschattung wenn möglich der Vorzug zu geben ist, damit durch eine Nachbeschattung keine Artefakte dur

PAD416

绝缘

Herstellung durchstrahlbarer Metallfolienen in reinen Metallen oder Legierungen sichtbar zu machen, ist für einen Oberflächenabdruck eine Reliefbildung durch ein geeignetes Atzverfahren erforderlich. Bei den Abdrücken geht ferner auch die Möglichkeit verloren, die Kristallstruktur der Metalle zu untersuchen. Es besteht zwar die Möglichkeit

妨碍议事

Anorganische disperse Systemeim Lichtmikroskop Teilchengrößen von 1 . nur mit einer Genauigkeit von 40% vermessen werden können, aber sehr viele pulverförmige Substanzen Korngrößen dieser Größenordnung und kleiner besitzen. Es sind daher viele nichtelektronenmikroskopische Verfahren entwickelt worden, um auf indirektem Wege Aus

interior

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,Substanzmissbrauch und Drogenüberdosis,Präparatdicken von 50—1000 Å durchstrahlt werden können. Deshalb ist es nicht möglich, mit diesen Geräten Oberflächen von kompaktem Material direkt elektronenoptisch abzubilden. Dies gelingt nur über den Umweg eines Oberflächenabdruckes (§ 13). Für viele Zwecke besteht das Interesse, diesen Abdruck