Titlebook: CAD-Entwurfskontrolle in der Mikroelektronik; Mit einer Einführung Wolfgang Nebel Textbook 1985 Springer Fachmedien Wiesbaden 1985 Algorith

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Feature

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für Strukturen auf verschiedenen Maskenebenen. Technologische Unzuläglichkeiten sind z.B. unexakte Justage der Masken, Gefahr des Kurzschlusses bei nebeneinanderliegenden Leitungen oder die Gefahr der Unterbrechung von schmalen Leiterbahnen. Der Halbleiterhersteller ermittelt durch Versuche die jewe

重画只能放弃

erten halbleiterphysikalischen Vorgänge innerhalb der Transistoren ist eine solche Simulation jedoch sehr rechenintensiv. Somit ist eine Simulation auf Schaltkreisebene für Schaltungen mit mehr als ca. 30 Transistoren nicht mit vertretbarem Rechenaufwand möglich. Durch Erzeugung einer Logikbeschreib

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Counteract

oll-Beschreibung einer Schaltung auf einer bestimmten Betrachtungsebene existiert und aus der nächstniedrigen Betrachtungsebene eine Ist-Beschreibung extrahiert wurde. Die Schaltungen bestehen in den Betrachtungsebenen Schaltkreisebene bis RT-Ebene aus Schaltungselementen und Knoten. Die Schaltungse

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