affidavit
发表于 2025-3-21 19:33:27
书目名称Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr影响因子(影响力)<br> http://figure.impactfactor.cn/if/?ISSN=BK0312189<br><br> <br><br>书目名称Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr影响因子(影响力)学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/ifr/?ISSN=BK0312189<br><br> <br><br>书目名称Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr网络公开度<br> http://figure.impactfactor.cn/at/?ISSN=BK0312189<br><br> <br><br>书目名称Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr网络公开度学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/atr/?ISSN=BK0312189<br><br> <br><br>书目名称Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr被引频次<br> http://figure.impactfactor.cn/tc/?ISSN=BK0312189<br><br> <br><br>书目名称Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr被引频次学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/tcr/?ISSN=BK0312189<br><br> <br><br>书目名称Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr年度引用<br> http://figure.impactfactor.cn/ii/?ISSN=BK0312189<br><br> <br><br>书目名称Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr年度引用学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/iir/?ISSN=BK0312189<br><br> <br><br>书目名称Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr读者反馈<br> http://figure.impactfactor.cn/5y/?ISSN=BK0312189<br><br> <br><br>书目名称Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr读者反馈学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/5yr/?ISSN=BK0312189<br><br> <br><br>
类似思想
发表于 2025-3-21 21:08:35
Entwicklungsbedarf in der PVD-Technologie,er Stähle, die thermisch nur niedrig belastet werden dürfen, beschichtet werden, so ist eine wesentliche Aufgabe in der Prozeß-und Schichtentwicklung die Ausführung der Beschichtung bei niederen Temperaturen (< 200°C). Daneben sind Fragen der gleichmäßigen 3D-Beschichtung und des Übertragens der Pro
conspicuous
发表于 2025-3-22 02:08:48
Aufgabenstellung,in einem PVD-Prozeß durch einen energieerhöhten Ionenbeschuß an der Substratoberfläche zu unterstützen. Dabei soll die Ener-gie der auftreffenden Teilchen weitgehend unabhängig von anderen Prozeßgrößen und Prozeß-parametern eingestellt werden können. Der Beschuß soll richtungsunabhängig und allseiti
铁塔等
发表于 2025-3-22 07:58:33
,Wirkungen der überlagert gepulsten Biasspannung auf die Prozeßbedingungen,abhängig gemacht. Dieser Parame-ter E. ist direkt proportional zur durchschnittlichen Energie und zur Stromdichte der auftref-fenden Ionen bzw. zur Biasspannung U. und zur Biasstromstärke I.:.Beschichtungsversuche mit der überlagert gepulsten Biasspannung sollen zeigen, daß die zur Ausbildung der Zo
安心地散步
发表于 2025-3-22 12:30:14
http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_5.png
Monotonous
发表于 2025-3-22 13:59:14
http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_6.png
Monotonous
发表于 2025-3-22 18:28:00
http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_7.png
Palpitation
发表于 2025-3-22 22:01:28
Ausblick,Schritt zu weiteren Anwen-dungen darstellen. Es wird erwartet, daß diese Technologie insbesondere bei Metallisierungen Verbesserungen der Schichtsysteme schaffen und neue Einsatzmöglichkeiten zulassen wird. Das Verfahren wird momentan in mehreren Unternehmen erfolgreich getestet.
口味
发表于 2025-3-23 05:18:38
http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_9.png
拖债
发表于 2025-3-23 07:26:49
Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr978-3-642-47892-5