灌输 发表于 2025-3-23 13:28:05

http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_11.png

Occlusion 发表于 2025-3-23 14:54:51

http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_12.png

不透明 发表于 2025-3-23 20:12:35

Folgen von Obliegenheitsverletzungen,fahren lassen sich dünne Schichten im Bereich einiger Nanometer bis zu einigen Mikrometern auf vielen Werkstücken erzeugen. Durch die Beschichtung lassen sich gezielt die Eigenschaften der Werkstückober-fläche verändern. Die Oberfläche dient bei allen Bauteilen als Schnittstelle zu ihrer Umwelt und

enormous 发表于 2025-3-24 00:38:44

http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_14.png

儿童 发表于 2025-3-24 04:34:43

http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_15.png

淘气 发表于 2025-3-24 07:55:04

Intelligenter Umgang mit Fehlern,abhängig gemacht. Dieser Parame-ter E. ist direkt proportional zur durchschnittlichen Energie und zur Stromdichte der auftref-fenden Ionen bzw. zur Biasspannung U. und zur Biasstromstärke I.:.Beschichtungsversuche mit der überlagert gepulsten Biasspannung sollen zeigen, daß die zur Ausbildung der Zo

Banquet 发表于 2025-3-24 11:53:45

http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_17.png

不规则的跳动 发表于 2025-3-24 15:36:58

http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_18.png

BILE 发表于 2025-3-24 20:52:50

https://doi.org/10.1007/978-3-322-90029-6nen (bis 1000 eV) während des Beschichtungsprozesses dargestellt. Die aus der ionenunterstützten Abscheidung resultier renden Vorteile in den Gebrauchseigenschaften einer Beschichtung sind vielfaltig, basieren je-doch fast ausschließlich auf einem Verbessern der Mikrostruktur abgeschiedener Schichte

LUMEN 发表于 2025-3-25 03:00:23

http://reply.papertrans.cn/32/3122/312189/312189_20.png
页: 1 [2] 3 4 5
查看完整版本: Titlebook: Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr; Walter Olbrich Book 1994 Springer-Ve