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Titlebook: Ion Beams in Materials Processing and Analysis; Bernd Schmidt,Klaus Wetzig Book 2013 Springer-Verlag Wien 2013 Ion Beams.Materials process

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发表于 2025-3-21 17:13:39 | 显示全部楼层 |阅读模式
书目名称Ion Beams in Materials Processing and Analysis
编辑Bernd Schmidt,Klaus Wetzig
视频videohttp://file.papertrans.cn/476/475141/475141.mp4
概述Offers comprehensive treatment of the use of ion beams in material science research.Includes numerous tables, graphs and illustrations that amplify the text.Provides optimization strategies for solid-
图书封面Titlebook: Ion Beams in Materials Processing and Analysis;  Bernd Schmidt,Klaus Wetzig Book 2013 Springer-Verlag Wien 2013 Ion Beams.Materials process
描述A comprehensive review of ion beam application in modern materials research is provided, including the basics of ion beam physics and technology. The physics of ion-solid interactions for ion implantation, ion beam synthesis, sputtering and nano-patterning is treated in detail. Its applications in materials research, development and analysis, developments of special techniques and interaction mechanisms of ion beams with solid state matter result in the optimization of new material properties, which are discussed thoroughly. Solid-state properties optimization for functional materials such as doped semiconductors and metal layers for nano-electronics, metal alloys, and nano-patterned surfaces is demonstrated. The ion beam is an important tool for both materials processing and analysis. Researchers engaged in solid-state physics and materials research, engineers and technologists in the field of modern functional materials will welcome this text.
出版日期Book 2013
关键词Ion Beams; Materials processing and analysis
版次1
doihttps://doi.org/10.1007/978-3-211-99356-9
isbn_softcover978-3-7091-1733-0
isbn_ebook978-3-211-99356-9
copyrightSpringer-Verlag Wien 2013
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发表于 2025-3-21 21:37:33 | 显示全部楼层
Bernd Schmidt,Klaus Wetzig Systeme.Übersichtliche tabellarische Zusammenfassungen.AusfDer Informatik wird in der öffentlichen Wahrnehmung seit bald drei Jahrzehnten eine Schlüsselrolle in der technologischen Entwicklung zugeordnet. Themen der aktuellen öffentlichen Diskussion, wie das "Y2K"-Problem oder E-Commerce, beflügeln
发表于 2025-3-22 03:09:28 | 显示全部楼层
Bernd Schmidt,Klaus Wetzig Systeme.Übersichtliche tabellarische Zusammenfassungen.AusfDer Informatik wird in der öffentlichen Wahrnehmung seit bald drei Jahrzehnten eine Schlüsselrolle in der technologischen Entwicklung zugeordnet. Themen der aktuellen öffentlichen Diskussion, wie das "Y2K"-Problem oder E-Commerce, beflügeln
发表于 2025-3-22 05:10:35 | 显示全部楼层
Bernd Schmidt,Klaus Wetzig Systeme.Übersichtliche tabellarische Zusammenfassungen.AusfDer Informatik wird in der öffentlichen Wahrnehmung seit bald drei Jahrzehnten eine Schlüsselrolle in der technologischen Entwicklung zugeordnet. Themen der aktuellen öffentlichen Diskussion, wie das "Y2K"-Problem oder E-Commerce, beflügeln
发表于 2025-3-22 10:59:58 | 显示全部楼层
en der aktuellen öffentlichen Diskussion, wie das "Y2K"-Problem oder E-Commerce, beflügeln einmal mehr diese Position. Das damit verbundene hohe Ansehen der Informatik in der Öffentlichkeit begründet die gesellschaftliche Bereitschaft zu hohen Investitionen in die informationelle Infrastruktur. Dies
发表于 2025-3-22 13:48:40 | 显示全部楼层
Introduction,are important not only for the understanding of ion implantation, ion beam sputtering, ion channeling, ion-induced damage formation, and ion beam mixing, but also for the comprehension of ion beam synthesis, ion-induced phase transformation, and nanopatterning. Therefore, the book addresses both sci
发表于 2025-3-22 17:20:27 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-22 23:00:34 | 显示全部楼层
发表于 2025-3-23 01:51:37 | 显示全部楼层
Materials Processing,last 40 years, ion implantation became the key technology especially in semiconductor technology for the production of ultra-large-scale integrated (ULSI) circuits, for example, silicon processors and memory devices. The type and value of semiconductor conductivity can be selected by the type and am
发表于 2025-3-23 06:48:50 | 显示全部楼层
Materials Analysis by Ion Beams,scale from nm up to μm. Ion beam-based analytical techniques concern with ion sources, ion beams, the kind and cross section of ion interaction with matter, the emerging radiation (e.g., sputtered secondary ions, scattered ions, ion-induced photon, and electron emission), and appropriate radiation d
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