设为首页收藏本站
开启辅助访问 切换到窄版

 找回密码
 To register

QQ登录

只需一步，快速开始

扫一扫，访问微社区

  • ALL
  • Journals
  • Books

派博传思国际中心 »期刊书目

› Journal of SCIE
› ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC(工程，电气和电子)

1234下一页
返回列表

SCIE期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING 2024/2025影响因子:2.332 (IEEE T SEMICONDUCT M) (0894-6507). (ENGINEE

[复制链接]
查看: 55563|回复: 35
发表于 2025-3-21 17:32:19 | 显示全部楼层 |阅读模式
期刊全称IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
期刊简称IEEE T SEMICONDUCT M
影响因子20242.332
视频video
ISSN0894-6507
eISSN1558-2345
出版商IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
发行地址445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141
学科分类1.Science Citation Index Expanded (SCIE)--Engineering, Manufacturing | Engineering, Electrical & Electronic | Physics, Applied | Physics, Condensed Matter; 2.Current Contents Electronics & Telecommunications Collection--Semiconductors & Solid State Materials Technology; 3.Current Contents Engineering, Computing & Technology--Electrical & Electronics Engineering; 4.Essential Science Indicators--Engineering;
出版语言English
The information of publication is updating

SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING(20 21 REV HIST)影响因子


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING(IEEE T SEMICONDUCT M)影响因子@(工程，电气和电子)学科排名


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING(20 21 REV HIST)总引论文


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING(IEEE T SEMICONDUCT M)总引论文@(工程，电气和电子)学科排名


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING(20 21 REV HIST)影响因子


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING(IEEE T SEMICONDUCT M)总引频次@(工程，电气和电子)学科排名


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING(20 21 REV HIST)即时影响因子


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING(IEEE T SEMICONDUCT M)即时影响因子@(工程，电气和电子)学科排名


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING(20 21 REV HIST)五年累积影响因子


SCIE(SCI)期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING(IEEE T SEMICONDUCT M)五年累积影响因子@(工程，电气和电子)学科排名


单选投票, 共有 0 人参与投票
1.jpg
 

0票 0%

Perfect with Aesthetics
2.jpg
 

0票 0%

Better Implies Difficulty
3.jpg
 

0票 0%

Good and Satisfactory
4.jpg
 

0票 0%

Adverse Performance
5.jpg
 

0票 0%

Disdainful Garbage
您所在的用户组没有投票权限
喝水
回复

举报

发表于 2025-3-21 21:47:12 | 显示全部楼层
Submitted on: 29 August 2006. Revised on: 07 December 2006. Accepted on: 23 December 2006. ___________________IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
Radiculopathy
回复

举报

发表于 2025-3-22 03:44:57 | 显示全部楼层
eczema
回复

举报

发表于 2025-3-22 05:48:26 | 显示全部楼层
疾驰
回复

举报

发表于 2025-3-22 10:40:46 | 显示全部楼层
大范围流行
回复

举报

发表于 2025-3-22 16:27:28 | 显示全部楼层
补充
回复

举报

发表于 2025-3-22 17:02:34 | 显示全部楼层
DOLT
回复

举报

发表于 2025-3-22 21:33:39 | 显示全部楼层
改革运动
回复

举报

发表于 2025-3-23 01:27:13 | 显示全部楼层
Submitted on: 31 March 2006. Revised on: 13 June 2006. Accepted on: 10 July 2006. ___________________IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
manifestation
回复

举报

发表于 2025-3-23 06:59:42 | 显示全部楼层
Submitted on: 07 May 2022. Revised on: 24 July 2022. Accepted on: 05 August 2022. ___________________IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
deriver
回复

举报

下一页 »
1234下一页
返回列表
 关于派博传思  派博传思旗下网站  友情链接
派博传思介绍 公司地理位置 论文服务流程 影响因子官网 SITEMAP 大讲堂 北京大学 Oxford Uni. Harvard Uni.
发展历史沿革 期刊点评 投稿经验总结 SCIENCEGARD IMPACTFACTOR 派博系数 清华大学 Yale Uni. Stanford Uni.
|Archiver|手机版|小黑屋| 派博传思国际 ( 京公网安备110108008328) GMT+8, 2025-4-27 07:53
Copyright © 2001-2015 派博传思   京公网安备110108008328 版权所有 All rights reserved
快速回复 返回顶部 返回列表