Bush
发表于 2025-3-21 18:07:42
书目名称Silizium-Halbleitertechnologie影响因子(影响力)<br> http://figure.impactfactor.cn/if/?ISSN=BK0867362<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie影响因子(影响力)学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/ifr/?ISSN=BK0867362<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie网络公开度<br> http://figure.impactfactor.cn/at/?ISSN=BK0867362<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie网络公开度学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/atr/?ISSN=BK0867362<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie被引频次<br> http://figure.impactfactor.cn/tc/?ISSN=BK0867362<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie被引频次学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/tcr/?ISSN=BK0867362<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie年度引用<br> http://figure.impactfactor.cn/ii/?ISSN=BK0867362<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie年度引用学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/iir/?ISSN=BK0867362<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie读者反馈<br> http://figure.impactfactor.cn/5y/?ISSN=BK0867362<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie读者反馈学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/5yr/?ISSN=BK0867362<br><br> <br><br>
alcohol-abuse
发表于 2025-3-21 22:23:07
http://reply.papertrans.cn/87/8674/867362/867362_2.png
Blazon
发表于 2025-3-22 02:14:10
http://reply.papertrans.cn/87/8674/867362/867362_3.png
ESO
发表于 2025-3-22 07:43:43
MOS-Technologien zur Schaltungsintegration, Zustand als auch im dynamischen Betrieb die geringste Leistungsaufnahme auf. Trotzdem werden hier zur Verdeutlichung der gewachsenen Komplexität der Integrationstechniken zunächst die Einkanal-MOS-Technologien erläutert:
NIL
发表于 2025-3-22 10:56:55
http://reply.papertrans.cn/87/8674/867362/867362_5.png
自爱
发表于 2025-3-22 16:43:40
Einleitung,nstriert die Leistungsfähigkeit der Halbleitertechnologie in eindrucksvoller Weise. Strukturgrößen von 120 nm Weite, die noch vor wenigen Jahren mit optischer Lithografietechnik als unerreichbar galten, werden zurzeit in der Produktion eingesetzt. Ein Ende der Miniaturisierung ist bislang nicht abse
过于光泽
发表于 2025-3-22 21:07:24
Herstellung von Siliziumscheiben,eicherchips und Logikschaltungen sowie die anwendungsspezifischen Schaltkreise (ASIC) werden nahezu ausschließlich im Siliziumsubstrat hergestellt. Auch Leistungshalbleiter wie Thyristoren und ein großer Teil der Einzeltransistoren bzw. Dioden sind aus diesem Element gefertigt.
敌意
发表于 2025-3-22 22:37:42
Oxidation des Siliziums,h als Hilfsschicht zur Maskierung während der Herstellung der integrierten Schaltungen eingesetzt. Der jeweiligen Anforderung entsprechend sind Verfahren zum Aufbringen von Oxiden auf die Siliziumscheibe entwickelt worden, die sich in Wachstum und Qualität der entstehenden Schicht unterscheiden.
遗留之物
发表于 2025-3-23 03:06:05
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entrance
发表于 2025-3-23 07:29:12
,Ätztechnik,n jeweiligen Metallsiliziden geätzt werden. Die Ätztechnik dient dabei zum ganzflächigen Abtragen eines Materials oder zum Übertragen der Struktur des lithografisch erzeugten Lackmusters in die darunter liegende Schicht. Für diese Aufgabe bieten sich einerseits nasschemische Ätzlösungen an, zum ande