Malnutrition
发表于 2025-3-21 17:17:14
书目名称Silizium-Halbleitertechnologie影响因子(影响力)<br> http://figure.impactfactor.cn/if/?ISSN=BK0867368<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie影响因子(影响力)学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/ifr/?ISSN=BK0867368<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie网络公开度<br> http://figure.impactfactor.cn/at/?ISSN=BK0867368<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie网络公开度学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/atr/?ISSN=BK0867368<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie被引频次<br> http://figure.impactfactor.cn/tc/?ISSN=BK0867368<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie被引频次学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/tcr/?ISSN=BK0867368<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie年度引用<br> http://figure.impactfactor.cn/ii/?ISSN=BK0867368<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie年度引用学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/iir/?ISSN=BK0867368<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie读者反馈<br> http://figure.impactfactor.cn/5y/?ISSN=BK0867368<br><br> <br><br>书目名称Silizium-Halbleitertechnologie读者反馈学科排名<br> http://figure.impactfactor.cn/5yr/?ISSN=BK0867368<br><br> <br><br>
剥削
发表于 2025-3-21 22:59:30
tionstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen 100 nm gleichmäßig und reprod
未完成
发表于 2025-3-22 03:10:19
http://reply.papertrans.cn/87/8674/867368/867368_3.png
冥想后
发表于 2025-3-22 06:14:57
Depositionsverfahren, sich in chemische und physikalische Abscheidetechniken unterteilen. Sowohl einkristalline als auch polykristalline und amorphe Schichten können mit den verschiedenen Techniken auf die Silizium- bzw. die Scheibenoberfläche aufgebracht werden.
场所
发表于 2025-3-22 08:53:03
http://reply.papertrans.cn/87/8674/867368/867368_5.png
柱廊
发表于 2025-3-22 14:00:01
Einleitung,s hin zu Speicherbausteinen mit einer Kapazität von 4 Gbit pro Chip — demonstriert die Leistungsfähigkeit der Halbleitertechnologie in eindrucksvoller Weise. Strukturgrößen von 90 nm Weite, die noch vor wenigen Jahren mit optischer Lithografietechnik als unerreichbar galten, werden zurzeit in der Pr
使服水土
发表于 2025-3-22 20:35:56
Herstellung von Siliziumscheiben,eicherchips und Logikschaltungen sowie die anwendungsspezifischen Schaltkreise (ASIC) werden nahezu ausschließlich im Siliziumsubstrat hergestellt. Auch Leistungshalbleiter wie Thyristoren und ein großer Teil der Einzeltransistoren bzw. Dioden nutzen dieses Element.
Perineum
发表于 2025-3-22 22:56:38
http://reply.papertrans.cn/87/8674/867368/867368_8.png
参考书目
发表于 2025-3-23 01:49:38
http://reply.papertrans.cn/87/8674/867368/867368_9.png
破布
发表于 2025-3-23 06:30:36
,Ätztechnik,n jeweiligen Metallsiliziden geätzt. Die Ätztechnik dient dabei zum ganzflächigen Abtragen eines Materials oder zum Übertragen der Struktur des lithografisch erzeugten Lackmusters in die darunter liegende Schicht. Für diese Aufgabe bieten sich einerseits nasschemische Ätzlösungen an, zum anderen eig